對于傳統(tǒng)的激光器制造商而言，光束質(zhì)量分析已經(jīng)成為標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)。激光束的品質(zhì)由以下參數(shù)定義：衍射限倍數(shù)因子M2，或者它的倒數(shù)K因子。
M2或K因子給出了激光光束聚焦能力的理論測量方法，這對評價不同應(yīng)用領(lǐng)域的光束好壞非常重要。M2因子其物理實質(zhì)是激光光束與標(biāo)準(zhǔn)基模高斯光束（TEM00）進行比較，反映實際激光光束與基模高斯光束的接近程度。理想的M2=1,實際測量的M2越趨近1，說明激光的聚焦能力越強。

以色列Ophir公司收購了美國spiricon公司（面陣式光束質(zhì)量分析儀）和美國photon公司（狹縫掃描式光束質(zhì)量分析儀），為激光M2分析提供了多種不同的儀器，可以只對不同的激光器。目前業(yè)內(nèi)的絕大多數(shù)激光器，Ophir都可以提供相應(yīng)的解決方案。

M2測量原理圖示

Spiricon公司M2-200s自動M2分析儀具有如下特點（面陣式光束質(zhì)量分析儀）
1.測量速度快，2分鐘內(nèi)完成M2測量；
2.*符合ISO測量標(biāo)準(zhǔn)；
3.采用的Ultracal基線校準(zhǔn)技術(shù)，可獲得zui為的測量數(shù)據(jù)；
4.提供自動衰減調(diào)節(jié)，使測量更加方便；
5.適用于連續(xù)和脈沖激光測量；
6.采用折疊式鏡腔設(shè)計，保證儀器體積小巧，使用方便.

Spiricon公司推出的M2-200s自動M2分析儀是*一款符合ISO標(biāo)準(zhǔn)的M2測量設(shè)備，保持著在該領(lǐng)域的。測量過程中，固定的透鏡和高速的自動光學(xué)導(dǎo)軌使得相機可以快速的采集到從近場到遠(yuǎn)場多個位置的激光光斑，測量、傳輸以及激光功率衰減全部由軟件自動控制。

M2-200s在工作過程中造束腰透鏡和相機位置固定，通過兩片反光鏡在光學(xué)導(dǎo)軌上的自動移動，相機就可以的捕捉到從近場到遠(yuǎn)場不同位置的激光光斑，再通過軟件進行數(shù)據(jù)分析與計算，從而得到M2值、發(fā)散角、束腰大小等參數(shù)。

Spiricon采用了的Ultracal基線校準(zhǔn)技術(shù)，從而可以有效去除環(huán)境噪聲，得到zui為準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)。

Photon公司的NanoModeScan，具有以下特點（狹縫掃描式光束質(zhì)量分析儀）：
1.可對大功率激光光束進行M2分析，而不需太多的衰減設(shè)備；
2.全自動分析；
3.配置NanoScan 2 USB接口探頭和NanoScan V2光束分析軟件，在測量M2的同時可以對光斑進行光斑大小、峰值中心、幾何中心等參數(shù)進行分析；
4.配置導(dǎo)軌、200mm和400mm焦距束腰生成鏡.